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Ab Ende 2027 sollen in Kärnten Galliumnitrid-Leistungshalbleiter auf 300-Millimeter-Wafern gefertigt werden. Die EU hat dafür eine staatliche Förderung von 319 Millionen Euro genehmigt.
Infineon will bis 2034 rund 1,1 Milliarden Euro in den Standort Villach investieren. In bestehenden Reinräumen soll nach Angaben des Halbleiterkonzerns die weltweit erste Hochvolumenfertigung für Galliumnitrid-Leistungshalbleiter auf 300-Millimeter-Wafern entstehen. Der Produktionsstart ist für Ende 2027 geplant. Das Vorhaben ist für Kärnten vor allem wegen der rund 4.800 bestehenden Arbeitsplätze bei Infineon in Villach und für Österreich wegen der vorgesehenen staatlichen Förderung von 319 Millionen Euro relevant.
Unternehmen und Bundesregierung stellten die Eckpunkte des Projekts am 27. Oktober vor. Die Europäische Kommission genehmigte die Beihilfe im Rahmen des europäischen Chips Acts. Die formelle Förderzusage des zuständigen Bundesministeriums für Wirtschaft, Energie und Tourismus stand zum Zeitpunkt der Ankündigung allerdings noch aus.
Neue Fertigung in bestehenden Reinräumen
Infineon plant für den Ausbau keinen vollständig neuen Fabrikkomplex. Stattdessen sollen bereits vorhandene Reinraumflächen am Villacher Standort für die neue Produktion genutzt und entsprechend ausgerüstet werden. Die Investitionen sollen sich über den Zeitraum bis 2034 erstrecken. Nach dem vorgesehenen Start Ende 2027 will das Unternehmen die Fertigung abhängig von der Marktnachfrage schrittweise hochfahren.
Vorbereitungen für die Erweiterung reichen bereits weiter zurück. Infineon Technologies Austria beantragte im Dezember 2024 bei der Stadt Villach Änderungen an der bestehenden Betriebsanlage unter der Projektbezeichnung „EPI GaN 300“. Das Behördenverfahren umfasste unter anderem ein neues Gebäude für die Ammoniakversorgung, die Erweiterung einer Medienbrücke und Umbauten in einem Produktionsgebäude. Für die GaN-Produktion waren vier zusätzliche Produktionsanlagen sowie der Abbau älterer Anlagen vorgesehen.
Was Galliumnitrid-Chips leisten sollen
Galliumnitrid, kurz GaN, ist ein Halbleitermaterial, das insbesondere bei der effizienten Umwandlung und Steuerung elektrischer Energie eingesetzt wird. Entsprechende Leistungshalbleiter können etwa für Stromversorgungen in Rechenzentren, Energietechnik und Elektromobilität verwendet werden. Infineon verbindet mit der Technologie unter anderem wachsenden Bedarf durch KI-Infrastruktur und leistungsfähige Stromversorgungssysteme.
Der geplante Schritt auf Wafer mit einem Durchmesser von 300 Millimetern soll die Produktion in großen Stückzahlen wirtschaftlicher machen. Ein Wafer ist eine dünne Scheibe, auf der zahlreiche einzelne Halbleiterbauteile hergestellt werden. Nach Angaben von Infineon lassen sich auf einem 300-Millimeter-Wafer ungefähr 2,3-mal so viele Chips unterbringen wie auf einem Wafer mit 200 Millimetern Durchmesser. Wie stark sich dieser Vorteil auf die tatsächlichen Produktionskosten auswirkt, hängt jedoch auch von Ausbeute, Auslastung und Marktnachfrage ab.
Die Bezeichnung als weltweit erste Hochvolumenfertigung dieser Art stammt vom Unternehmen. Sie bezieht sich konkret auf GaN-Leistungshalbleiter auf 300-Millimeter-Wafern und nicht auf die Halbleiterproduktion insgesamt.
319 Millionen Euro staatliche Unterstützung genehmigt
Für das Projekt sind öffentliche Mittel von 319 Millionen Euro vorgesehen. Das entspricht nach Angaben von Wirtschaftsminister Wolfgang Hattmannsdorfer einer Förderquote von 29 Prozent gemessen am angekündigten Investitionsvolumen. Die Mittel seien im Vorbelastungsgesetz zur Umsetzung des europäischen Chips Acts budgetiert.
Die Europäische Kommission genehmigte die staatliche Unterstützung am 27. Oktober. Eine solche beihilfenrechtliche Freigabe ist erforderlich, weil nationale Förderungen für einzelne Unternehmen den Wettbewerb im EU-Binnenmarkt beeinflussen können. Sie ersetzt jedoch nicht die formelle Förderzusage der zuständigen österreichischen Stelle.
Der Chips Act der Europäischen Union soll Investitionen in Forschung und Produktion fördern und Europas Abhängigkeit von Halbleiterimporten verringern. Das Villacher Projekt ist damit Teil einer breiteren europäischen Industriepolitik. Für Infineon reduziert die Förderung einen Teil der finanziellen Belastung des langfristigen Ausbaus; für die öffentliche Hand steht dem das Ziel gegenüber, Fertigungskapazitäten und technologisches Wissen in Österreich und Europa zu halten.
Keine zusätzlichen Stellen angekündigt
Unmittelbar neue Arbeitsplätze sind mit dem Projekt nach Angaben von Infineon Austria nicht verbunden. Die Investition soll vielmehr bestehende Beschäftigung absichern. Infineon beziffert die Zahl seiner Mitarbeiterinnen und Mitarbeiter in Österreich mit rund 5.800, davon arbeiten etwa 4.800 in Villach.
Für den Kärntner Industriestandort liegt die Bedeutung daher weniger in einem kurzfristigen Beschäftigungszuwachs als in der technologischen Weiterentwicklung der bestehenden Produktion. Neue Fertigungsverfahren können die Position des Werks innerhalb eines international tätigen Konzerns stärken. Ob und in welchem Umfang darüber hinaus Beschäftigung bei Zulieferern oder Dienstleistern entsteht, ist derzeit nicht beziffert.
Marktnachfrage entscheidet über den weiteren Hochlauf
Der Zeitplan sieht den Beginn der Großserienfertigung Ende 2027 vor. Die volle Wirkung der Investition wird sich aber erst über mehrere Jahre zeigen, da die Ausgaben bis 2034 geplant sind und Infineon den Ausbau an die Nachfrage koppeln will. Damit hängt die tatsächliche Auslastung auch von der Entwicklung jener Märkte ab, in denen energieeffiziente Leistungshalbleiter benötigt werden.
Für Villach schafft die Ankündigung einen langfristigen Investitionsrahmen, aber keine Garantie für einen bestimmten Produktionsumfang oder zusätzliche Stellen. Praktisch entscheidend sind nun die formelle Förderzusage des Bundes, die Umsetzung der erforderlichen Anlagenänderungen und der planmäßige Produktionsbeginn Ende 2027.
